애플의 새로운 특허가 Face ID를 혁신: 부품 크기 작아지고, 비용 낮아지고, 정밀도 향상
IT之家 5월 29일 소식, 기술 매체 patentlyapple은 어제(5월 28일) 블로그 게시물을 통해 애플이 차세대 Face ID 기술과 관련된 새로운 특허를 승인받았다고 보도했습니다. 이 기술은 회절 광학 요소(DOE)에서 더 발전된 "초표면 광학 요소"(MOE)로 전환하는 것입니다.
IT之家에 따르면, 애플의 기존 Face ID는 회절 광학 요소(DOE)에 의존하여 점상 조명 패턴을 생성하고, 이를 통해 목표 영역의 3D 매핑을 수행합니다.
전통적인 구조광 프로젝터 모듈(Structured light projectors)은 일반적으로 여러 광학 요소, 즉 DOE와 콜리메이터 렌즈를 필요로 하며, 이를 통해 광선을 분할하고 점상 패턴을 투사합니다. 이러한 프로젝터 모듈은 스마트폰에 내장될 만큼 충분히 작지만, 여전히 더 작은 크기로의 축소가 요구됩니다.
특허에서는 초표면 광학 요소(MOE) 설계 방안을 제안하고 있으며, 단일 평면 요소 내에 광선 분할과 콜리메이터 기능을 통합하여 프로젝터 모듈의 크기를 줄이고, 생산 비용을 낮추며, 조립 과정을 단순화하고 제조 오류의 영향을 줄일 수 있습니다.
새로운 특허는 또한 MOE 기술이 프로젝터 모듈의 광축 기울기 각도를 조정하여 카메라의 시야(FOV)와 더 잘 중첩되도록 할 수 있음을 보여줍니다. 이러한 설계는 점상 패턴이 카메라 시야를 덮어 3D 매핑의 정확성을 향상시킵니다. 또한, 장치는 컨트롤러를 통해 점상 조명과 범용 조명을 번갈아 활성화하여 다양한 장면 요구에 유연하게 적응할 수 있습니다.
